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产品名称:集成电路
产品型号:HVFO-GC-DZ02
产品介绍:集成电路一般洁净度在100级到1000级,温湿度控制严格,需要很高的洁净工艺; 由于集成电路工艺生产技术的特殊性,它对生产环境,如洁净度、温度、湿度都有严格的要求,这直接关系到晶圆产品的质量和寿命,必须严格控制在要求范围之 内
集成电路_电子工业洁净室

集成电路一般洁净度在100级到1000级,温湿度控制严格,需要很高的洁净工艺; 由于集成电路工艺生产技术的特殊性,它对生产环境,如洁净度、温度、湿度都有严格的要求,这直接关系到晶圆产品的质量和寿命,必须严格控制在要求范围之 内。在工程设计中,暖通空调专业担负着保证生产区洁净度等级和温度、湿度要求的使命。

洁净室系统采用新风集中处理机组(MAU)+风机过滤单元(FFU)+干式冷盘管(DDC)的方式,其空气处理过程为:循环风经设置在一层的干式冷却盘管冷却后,进入上部送风静压箱,与处理后的新风混合,经FFU加压、过滤后送入生产区。

过滤系统如何选择 
  百级洁净室不同于千级以下洁净室,百级为层流洁净室,一般采用MAU+DDC+FFU形式;即新风机组+干盘管+风机过滤单元形式;
维护结构如何选择
1.百级洁净室墙、顶板材一般多采用50mm厚的夹芯彩钢板,阴角全部选用圆弧连接;百级一般采用二次隔墙及二次吊顶形式做回风技术夹道;
2.地面:百级一般采用架空地板敷设作为回风夹道;方便气流从顶部垂直吹下;’
净化参数
换气次数:1000级≥60次;100级:过滤器满布率不低于80%。
压差:主车间对相邻房间≥10Pa平均风速:00级0.3-0.5m/s;
温度 冬季>16℃;夏季 <26℃;波动±2℃。 
湿度45-65%;噪声≤65dB(A);新风补充量是总送风量的10%-30%;照度:不低于350LX;













光学微电子净化工程之定义为将一定空间范围内之空气中的微尘粒子、有害空气、细菌等之污染物排除,并将室内之温湿度、洁净度、室内压力、气流速度与气流分布、噪音震动及照明、静电控制在某一需求范围内,而所给于特别设计之密闭空间。

光学微电子净化工程亦名无尘室或清净室,目前已是半导体、精密制造、液晶制造、光学制造、线路板制造和生物化学、医药、食品制造等行业不可或缺的重要设施。近几年来,由于技术之创新发展,对于产品的高精密度化、细小型化之需求更为迫切,如超大型积体电路之研究制造,已成为世界各国在科技发展上极为重视的项目,而我公司的设计理念及施工技术在行业中则处于领先地位。

光学微电子净化工程一般包括:

1、 洁净生产区

2、 洁净辅助间(包括人员净化用房、物料净化用室和部分生活用室等)

3、 管理区(包括办公、值班、管理和休息等)

4、 设备区(包括净化空调系统应用、电气用房、高纯水和高纯气用房、冷热设备用房)

光学微电子净化工程净化原理

气流→初效净化→空调→中效净化→风机送风→管道→高效净化风口→吹入房间→带走尘埃细菌等颗粒 → 回风百叶窗→初效净化 重复以上过程,即可达到净化目的。

光学微电子净化工程净化参数

换气次数:100000级≥15次;10000级≥20次;1000≥30次。压差:主车间对相邻房间≥5Pa平均风速:10级、100级0。3-0。5m/s;温度 冬季>16℃;夏季 <26℃;波动±2℃。温度45-65%;GMP粉剂车间湿度在50%左右为宜;电子车间湿度略高以免产生静电。噪声≤65dB(A);新风补充量是总送风量的10%-30%;照度300LX。

光学微电子净化工程结构材料

  1. 净化厂房墙、顶板材一般多采用50mm厚的夹芯彩钢板制造,其特点为美观、刚性强。圆弧墙角、门、窗框等一般采用专用氧化铝型材制造。

2.地面可采用环氧自流坪地坪或高级耐磨塑料地板,有防静电要求的,可选用防静电型。

3。送回风管道用热渡锌板制成,贴净化保温效果好的阻燃型PF发泡塑胶板。

4.高效送风口用不锈钢框架,美观清洁,冲孔网板用烤漆铝板,不生锈不粘尘,宜清洁。

光学微电子净化工程解决方案:

净化工程的设计过程中,应加强对光学微电子行业净化工程设计方案分析了解,根据该工程是新建工程或者是旧厂房改造工程,并结合其具体的生产工艺、生产流程等要求确定其需要的洁净度、温湿度。再根据该工程的具体情况,同时还要考虑到生产厂家的经济承受能力,综合各种因素来确定采用何种净化方案,这样才可设计出一个能满足甲方生产使用要求、工程造价合理、经济节能实用的方案。






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